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Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE 用于制作閃耀羅蘭光柵

價(jià)格:面議瀏覽:183次聯(lián)系:張婷婷 / 15021001340 / 0755-25473928企業(yè):伯東貿(mào)易(深圳)有限公司留言店鋪收藏

長(zhǎng)春某研究所在制作閃耀羅蘭光柵的研究中采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE,制造出的閃耀羅蘭光柵比其他工藝制造的光柵產(chǎn)品整體衍射效率高25%, 實(shí)現(xiàn)高衍射效率閃耀羅蘭光柵制作, 且工藝可控、穩(wěn)定, 所制作的閃耀羅蘭光柵衍射效率高于市場(chǎng)同類產(chǎn)品.

 

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE 技術(shù)參數(shù):

基板尺寸

< Ф8 X 1wfr

樣品臺(tái)

直接冷卻(水冷)0-90 度旋轉(zhuǎn)

離子源

16cm 考夫曼離子源

均勻性

?5% for 4”Ф

硅片刻蝕率

20 nm/min

溫度

<100

 

Hakuto 離子刻蝕機(jī) 10IBE  離子源是配伯東公司代理美國(guó)考夫曼博士創(chuàng)立的 KRI考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 160

 

伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC160 技術(shù)參數(shù):

 離子源型號(hào)

 離子源 KDC 160 

Discharge

DC 熱離子

離子束流

>650 mA

離子動(dòng)能

100-1200 V

柵極直徑

16 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

2-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

中和器

燈絲

 

Hakuto 離子刻蝕機(jī) 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 ? 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度.

 

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)產(chǎn)品信息或討論 , 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :

上海伯東 : 羅先生                               臺(tái)灣伯東 : 王小姐
T: 86-21-5046-1322                   T: 886-3-567-9508 ext 161
F: 86-21-5046-1490                        F: 886-3-567-0049
M: 86 152-0195-1076                     M: 886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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